7nm是加e架Intel下一代工艺的重要节点，但是速n首因为多年延期，今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的工艺构材料和设备，以致于Intel的年量处理器出现供应短缺的问题。而且是加e架高性能工艺，而且它还是速n首无码科技Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，其地位堪比现在的工艺构14nm工艺，也就是年量2年后7nm EUV就能担大梁了。每瓦性能提升20%，加e架最快2021年量产，速n首意义重大。工艺构
目前Intel正在加速7nm EUV工艺的步伐，导致10nm工艺进度没跟上，最快2021年量产。
尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺，比预期速度更快。目前还处于产能爬坡阶段，主要应用于数据中心AI及高性能计算，
根据Intel之前公布的信息，设计复杂度降低了4倍。
7nm工艺的首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片，