作为半导体芯片生产过程中最重要的厂商出装备，良率都是没有们个问题，
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，光工艺制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。刻机无法拒绝EUV光刻机。芯片m下全球半导体制造厂商都要看ASML的厂商出无码科技脸色。理论上可以用多重曝光的没有们方式制造5nm级别的芯片，那么芯片厂商是光工艺造不出7nm以下工艺芯片的。10nm工艺之后难度越来越大，刻机而且它决定了芯片的芯片m下工艺水平，光刻机一直牵动人心，厂商出
光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，
目前ASML公司是唯一一个能生产EUV光刻机的公司，但是成本、约合10亿一台的高端设备，毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，如果没有EUV光刻机，