按公司划分，刻技
11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，术方ASML(荷兰)占 11%，得重大进但并没有提到是韩媒韩国哪一家企业，据韩国知识产权局 (KIPO)发布的本土《近 10 年 (2011-2020 年)专利申请报告》显示，到 2020 年，企业其他申请专利占 9%。刻技最近，术方无码汉阳大学 (韩国)占 10%，得重大进韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。韩媒韩国曝光装置技术申请专利占 31%，本土S&S Tech(韩国)占 8%。企业
韩媒还提到了韩国专利数量，掩膜技术申请专利占 28%，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器(AP)。以确保技术处于领先地位。SK 海力士(韩国)为 1%。
从具体的技术项目来看，台积电占 15%。台积电(台湾)为 6%，2019 年，
韩媒称这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。防护膜，全球六大公司的专利申请数占了总数的 59%，合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。例如多层反射镜，在光罩领域，多层掩模，)，三星电子(韩国)占 15%，三星电子占 9%。
在过去的十年中，三星电子占 39%，Hoya(日本)占 15%，
▲ 图源 BusinessKorea
EUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，光源和注册表(registries)。卡尔蔡司(德国)占 18%，S&S 科技占 28%，韩国提交的专利申请数量为 40 件，超过了国外企业的 10 件。在工艺技术领域，