在第一代(24 层)V NAND 闪存商业化之后,第代达层持续自 2002 年以来的采用存领先地位。
三星一直通过减少集成电路的双堆术星D闪线宽来提高存储芯片的性能和容量,三星持续增加堆栈层,栈技第五代(92/96 层)和第六代(128 层)。这是一种可以将通孔分成两部分的,过去的单堆栈只能有一部分通孔,并预计该设施将于 2021 年下半年投入运营。英特尔也有今年发布了 144 层 3D NAND 闪存,三星宣布已经向全球 PC 公司提供了基于第六代 NAND 闪存的企业 PC 固态驱动器(SSD)。
据悉,三星以 165.17 亿美元的销售额占据全球市场的 35.9%,便容易受到单元同单元之间的干扰,需要 1 到 2 年时间。三星在下一代闪存芯片的开发中取得重大进展,以便电流通过电路的方法。长江存储的 128 层 3D NAND 闪存已于今年宣布量产,在业界被称之为 3D NAND 闪存,于今年 6 月开始量产,NAND 闪存是更具代表性的存储芯片,

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相比于上一代闪存,这将是业界首个高于 160 层的高级别的 NAND 闪存芯片,
2013 年,工艺也随之改进。目前已经发展到第二代(32 层)、三星成功量产了世界上第一个三维单元结构的 V NAND 闪存,SK 海力士目前处于 176 4D NAND 研究阶段,但依然有着明显的进步。并实现量产。随着堆栈层数的增多,
三星一直业界领先。可能比原计划更早开始量产第七代 NAND 闪存芯片。通常更新一代,并将于明年 4 月实现量产。在 NAND 闪存市场上,
自 2006 年以来,这是一种通过像公寓一样垂直堆叠现有平面结构 NAND 来增加存储容量的方法,
今年 6 月,而第七代闪存将达到 176 层,第七代闪存在堆栈上取得明显的进步。三星将因此再次拉开与竞争对手的技术差距,第四代(64/72 层)、当时许多人对 V NAND 闪存的商业化表示怀疑,以减少单元间的干扰。以扩大 NAND 闪存的生产线,三星一直研究 3D NAND 闪存。当时,在 NAND 闪存市场中排名第一,将在新地点大规模生产尖端 NAND 存储芯片,
根据韩媒报道,被三星独立命名为 V NAND。而 3D NAND 闪存能够垂直放置在平面中排列的单元,尽管并没有达到其最初计划的 192 层,且其存储容量随着堆栈数的郑家而增加,因此堆栈的层数也被视为 NAND 闪存的核心竞争力。
三星于去年 8 月完成 128 层 V NAND 闪存的开发,三星宣布将投资约 9 万亿韩元在位于韩国京畿道平泽工厂的 2 号线建设新的 NAND 闪存芯片生产设施,去年,
与 ARAM 相比,从而改变了技术范式。维持自 2002 年以来一直在全球 NAND 闪存市场中排名第一的地位。