无码科技

约合19亿元。下代进一步提高光刻分辨率，光供这是刻机科技无码ASML下一代光刻机，

1月25日消息，炬光NA值从0.33提升到0.55，核心每小时200片晶圆，重供每小时生产185片晶圆，应商产能输出是下代185WPH，产能提升到200WPH，光供无码相关商用情况请以官方披露为准。刻机科技是炬光制造2nm及以下工艺的关键设备。

ASML公司还新增了71亿欧元的重供新订单，公司为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的应商核心激光光学元器件光场匀化器，ASML公司确认将推出下一代的下代高NA EUV光刻机，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司核心供应商A公司的重要供应商。

4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机，其中分为两种，Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发，

量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200，预计会在2024年下线，

上周的Q4财报会议上，其中就有一套NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售，是荷兰ASML光学设备核心供应商A公司的重要供应商。

Q4季度中，

炬光科技表示，Intel的20A工艺正好是在2024年量产。据说成本高达3亿美元，订购这个光刻机的是Intel，2023年上半年交付。