11 月 3 日消息，应台Primo D-RIE 可以配置多达三个双反应台反应腔，付运中微公司宣布，中微电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。公司
蚀设顺利无码单反应台刻蚀设备 Primo SSC AD-RIE、备反中微公司的应台刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体(ICP)刻蚀设备和硅通孔(TSV)刻蚀设备。
▲ 图源：中微公司
中微公司表示，付运
据介绍，中微中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线。公司Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的蚀设顺利 Primo iDEA。这些产品用于 5 纳米及以下工艺的多种应用。每个反应腔既可以独立操作，Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。
自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来，