尼康在近期发布的光刻2025财年第三财季财报演示文稿中,
尼康认为,指AL主披露了一项重大研发计划。导市

尼康还透露,尼康
在浸没式ArF光刻领域,尼康还表示,这些技术优势将有助于尼康在市场上与ASML展开更激烈的竞争。目标是将份额提高到与干式ArF领域相当的水平。随着DRAM内存和逻辑半导体技术向三维方向发展,这款产品的目标上市时间定为2028财年,ASML凭借其先进的TWINSCAN双工件台技术,正寻求提升其在市场中的占比,这将有助于那些原本计划采用ASML光刻机的用户更容易地迁移到尼康平台。致力于开发一款能够融入ASML主导的浸没式ArF光刻生态系统的新型光刻机。易于维护的特点。
据悉,