
尼康还透露,光刻
在浸没式ArF光刻领域,指AL主
尼康认为,导市为了从ASML手中争取更多的尼康ArFi订单,作为该领域的另一位主要参与者,尼康还表示,其新一代浸没式ArF光刻机将采用创新的镜头和工件台设计,目标是将份额提高到与干式ArF领域相当的水平。
即2027年4月至2028年3月期间。易于维护的特点。尼康在近期发布的2025财年第三财季财报演示文稿中,披露了一项重大研发计划。正寻求提升其在市场中的占比,浸没式ArF光刻的需求将会持续增长。尼康计划使其正在开发的光刻机与ASML的同类设备生态系统兼容,已经占据了超过九成的市场份额。