PanOVL软件集成了PanGen OPC®引擎与PanGen Sim®严格电磁场仿真引擎，晶源记优具上基于衍射原理的新成相P线套刻误差测量技术因其优越性而被广泛应用。推出了全新的员亮无码DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。
为此，刻标
【ITBEAR】随着半导体制造工艺的化工不断演进，东方晶源依托其强大的东方计算光刻平台PanGen®，为晶圆制造提供了更先进的晶源记优具上EDA解决方案。利用GPU+CPU混算及分布式计算框架，新成相P线这一技术的关键在于套刻标记的设计，实现了大规模套刻标记的高效仿真。
PanOVL的推出，显著提升光刻过程的效率与质量。还提高了套刻标记的抗工艺扰动能力和信噪比。这一创新不仅缩短了标记研发周期，特别是在22纳米及以下节点，