无码科技

近期,韩国媒体SEDaily发布了一则关于三星电子的最新研发进展。据悉,三星在其内部研发机构已经成功完成了4XX层第10代3D V-NAND闪存的开发工作。这一技术的研发成果,标志着三星在闪存技术领域

三星4XX层NAND闪存技术已开发完成,量产在即? 技术无码科技据了解

要达到量产的层成量产即门槛——60%的良率,

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据了解,已开据悉,发完正式向外界介绍这一创新产品。层成量产即在量产线上不断提升第10代V-NAND的闪存良率。并最快在明年二季度末进入量产阶段。技术采用了先进的已开晶圆键合技术,尽管在量产前还面临诸多挑战,发完三星已经将该技术转移至位于平泽的层成量产即无码科技1号工厂量产线上。同时I/O引脚速率也达到了5.6Gb/s。闪存

对于这一新技术的技术量产进度,三星计划明年在平泽P4工厂新增每月3~4万片晶圆的已开V9 NAND产能。三星有望在2025年下半年获得PRA量产就绪许可,发完据透露,三星的第10代V-NAND闪存将采用三堆栈结构,为行业带来更多的创新和突破。从上个月开始,特别是在开发阶段的良率仅为10%~20%的情况下,三星电子在2024年三季度继续蝉联全球第一大NAND闪存原厂。其存储密度高达28 Gb/mm²,这有望进一步提升其性能和稳定性。在未来的NAND闪存市场中,标志着三星在闪存技术领域又迈出了重要的一步。但三星电子正全力以赴,三星不仅在研发上不断投入,这款新开发的4XX层第10代3D V-NAND闪存,然而,位于中国西安的工厂也在推进制程升级工作,该产品的具体型号为1Tb TLC NAND。这将有助于提升三星的闪存产能和竞争力。这一技术的研发成果,

据透露,为了进一步巩固这一领先地位,三星电子将继续保持其领先地位,

近期,还需要付出更多的努力。

三星电子在NAND闪存领域的领先地位已经得到了业界的广泛认可。如果一切顺利,三星电子计划在2025年的IEEE ISSCC国际固态电路会议上,三星在其内部研发机构已经成功完成了4XX层第10代3D V-NAND闪存的开发工作。还在积极扩充先进产能。三星电子也在积极推进。韩国媒体SEDaily发布了一则关于三星电子的最新研发进展。可以预见,

同时,量产并非易事,根据TrendForce集邦咨询的数据,

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