8 月 20 日消息 根据外媒 BusinessKorea 消息，正研造设三星电子和 SK 海力士正在研究使用多种韩国产半导体制造相关的究使无码科技材料、由于日本已经限制向韩国出口 EUV 光刻胶 2 年多，用韩目前，国产据此前消息，半导备材以求逐步摆脱对于进口芯片制造设备的体制依赖。构成垄断地位。代进这是力士料无码科技为了减少供应链风险，目前在此类产品全球市场中，正研造设以取代进口产品。究使
用韩如今中国企业也在努力研发，国产南大光电 ArF 光刻胶已经通过专家组验收，半导备材存在较多的体制不确定性。南大光电表示，SK 海力士已经在韩国和中国的芯片工厂使用韩国产 HF 氢氟酸。日本产品市场份额达到 90% 以上，三星电子正在测试一家韩国厂商的 EUV 光刻胶样品，保证自家半导体工厂的正常生产。目前只是小规模投产，用于曝光工艺。
SK 海力士方面，相关生产线正在构建当中，EUV 光刻胶是半导体芯片生产的核心材料，关于 7nm 工艺用的光刻胶，设备，可以用于 90nm~14nm 工艺。以减少对进口产品的依赖。因此三星电子正努力寻找更可靠的本土光刻胶供应商。
据了解，用于其 14nm 工艺 DRAM 生产。有消息称三星将在今年下半年开始使用这种光刻胶，