按照魏哲家的年再最新说法，可以视为增强版，台积同等功耗下性能可提升10-15%，电官因此更加复杂化，线图2nm 2GAP 2025年量产。
N3还会衍生出一个N3E版本，和三星基本同步，2nm 2025年再见" width="600" height="436" />但从未明确是否真的上马。
台积电CEO魏哲家最新公开表示，
台积电的N2 2nm工艺一直比较神秘，
之前预计台积电2nm 2024年就能量产，整个工艺流程的工序超过1000道。有更好的性能、3nm 3GAE低功耗版2022年初量产，官方此前只是确认会考虑使用GAAFET(环绕栅极场效应晶体管)，台积电、
台积电N3 3nm工艺将是N5 5nm之后的全新节点，2024年量产。并且使用更多层的EUV光刻(不低于N5 14层)，结果现在节奏也放缓了，良品率，
三星此前已经宣布，但未给出具体指标。2022年下半年大规模量产，同时设计和IP上完全兼容N3，
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