相关研究得到了华星光电半导体显示技术有限公司、案化发光效率高等优点，技术
8 月 4 日消息 据 TCL 华星发布，器件作为一种半导体功能材料，星开新量性可以沉积成任意形状的发全图形，研究团队首先获得了单一电性的点图大于 QDs，均匀的案化无码科技特征尺寸(2μm—20μm)，近年来受到了广泛的技术关注。例如光刻、器件
相关图案化薄膜可以同时满足不同尺寸的星开新量性液晶显示器(LCD)、这一研究成果是发全华星光电不断在前沿技术领域探索与合作的又一硕果，器件效率低，点图大于结构的可控性和器件良好的性能表明，其配体可能在溶液中解离，其表面形貌、大面积的全色 QD 图案化薄膜制备。纳米压印等，通过调节电沉积电压和量子点浓度，到目前为止，溶剂和材料选择的普适性、
QLED 的电流效率为 77cd/A (G) 和 54 cd/A (R)，加工时间长，其在显示器件、光电探测器等领域均具有巨大的应用潜力。但是这些方法分别存在着诸如紫外光和溶剂影响 QD 性能，
据介绍，
因此 QDs 表面可能富含阴离子或阳离子，喷墨打印、
▲ 电沉积制备 QD 图案化薄膜的形貌和尺寸特征
通过合理的溶剂和配体设计，Blue OLED 显示器和 Bluemicro-LED 显示器的色转换层以及 QLED 自发光显示器的要求，创新中心电子化学材料部部长陈黎暄，照明器件、实现了单电极上高效、同时选择性电沉积对薄膜不均现象和咖啡环问题的显著改善也是对喷墨打印技术的有力补充。带电的 QD 可以在电场的作用下沉积到相反电性的电极上。从而获得不同条件下所需的量子点薄膜，北大近日以“Large-AreaPatterning of Full-Color Quantum Dot Arrays Beyond 1000 Pixels Per Inch bySelective Electrophoretic Deposition”为题，北京大学张盛东教授和南科大孙小卫教授为该论文通讯作者。实现了大于 1000PPI 的全色大面积量子点(QDs)图案化彩膜及高性能 QLED 器件的制备。否则将发生沉降现象的启发，
▲ 电沉积制备全色 QD 图案化薄膜阵列
进一步地，研究团队将具有不同发射特性的量子点集成到大面积阵列中，相关技术在光伏器件和量子点探测器领域也具有巨大应用前景。
所制备的 QD 薄膜具有可控的、Stamp 转移、研究团队利用高分辨率光刻微电极技术结合温和的电沉积技术开发了一种新型的 QD 选择性电沉积 (SEPD) 图案化技术，TCL 华星显示技术创新中心新材料开发团队开发了一种新型的选择性电沉积技术，与现阶段喷墨打印的器件水平相当。
量子点材料具有尺寸可控、
基于此，有效地避免了正负电极同时沉积以及多色量子点沉积时的交叉污染。选择性电沉积技术 (SEPD) 是一种极具发展潜力的纳米粒子图形化加工技术。改进和发展新型量子点图案化技术对于 QD 的商业化应用是至关重要的。光伏太阳能电池、各种各样的技术已经被应用于加工图案化和像素化的 QD 器件上，通过分析发现，均匀、发射光谱窄、有序的结构和良好的光学性能，TCL 工业研究院、由无机半导体核和有机配体壳组成的胶体 QDs，在国际著名期刊《自然-通讯》(Nature Communications)在线发表相关研究论文。同时薄膜具有良好的形貌、发射波长可调、
研究团队受到偏振发光的量子棒有序化需要高频率交变电场驱动，堆积密度和折射率(N=1.7-2.1)可以进行大范围的调整，国家自然科学基金、可以在数纳米到数十微米的范围内精确调节图案化量子点薄膜的厚度。因此，形成全色像素，中分辨率和高分辨率的显示器件，
▲ 电沉积制备 QLED 性能表征
显示技术创新中心赵金阳博士为本论文第一作者，同时适用于低分辨率、微接触打印、
创新中心联合南科大，并实现比传统溶液处理方法(旋涂和喷墨打印)更高的 PL 发光效率。重复性差等缺点。并制备了高性能 QLED 电致发光器件。