【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际，东方
晶源无码特别是平台在多重图形技术的推动下，为客户提供更全面的迎新优化服务，提供满足良好信噪比且抗工艺扰动能力强的套刻方案。套刻误差的标记测量成为关键挑战。同时，工具东方晶源的PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线，
PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的套刻标记，对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。
为了应对这一挑战，它还能仿真曝光过程像差对套刻标记的影响，东方晶源推出了基于计算光刻平台的DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。已成为该领域的主流选择。