为了应对这一挑战,迎新优化实现了大规模套刻标记的套刻高效仿真与优化。
东方晶源的标记PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线,东方晶源推出了基于计算光刻平台的工具DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。该产品利用先进的PanGen OPC和PanGen Sim引擎,

PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的套刻标记,同时,还加强了与产业链上下游的合作,
【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际,
为了应对这一挑战,迎新优化实现了大规模套刻标记的套刻高效仿真与优化。
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PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的套刻标记,同时,还加强了与产业链上下游的合作,
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