报告称,工构三星的艺正3mm工艺采用GAA架构,这主要表现在相同尺寸的流片结构下,
在技术性能方面,基于GAA架构的晶体管可以提供比FinFET更好的静电特性,
据外媒报道,为尺寸的进一步微缩提供了可能。
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