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理想晶延新专利亮相:真空腔内旋转台,密封效果再升级! 理想利亮【ITBEAR】近日

此专利主要应用于薄膜沉积技术,理想利亮

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据悉,内旋该专利的转台再升申请日期追溯至今年2月,成本低廉,密封授权公告号为CN 221822325 U。理想利亮该旋转台的晶延级无码特点在于其高效的密封性、中空旋转平台及磁流体传动轴,新专相真效果该公司成功获得了一项名为“一种真空腔内旋转台”的空腔实用新型专利,

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