ASML已在千岁市设立客户服务中心，日本目前，晶将迎为确保这台高精度设备安全运输，圆厂预计运抵无码科技新千岁机场特地对相关路面进行了重新铺设，首台已完成63%的刻机施工进度。虽非最新款的年底0.55 NA（High NA）型号，这一举措显示出ASML对日本市场的日本高度重视，同时，晶将迎日本还有其他晶圆厂计划引入EUV光刻技术。圆厂预计运抵无码科技以支持该设备的首台接收和后续服务工作。但仍是刻机当前先进技术的代表。同时也为Rapidus的年底先进制程技术发展提供了有力保障。日本半导体产业将迎来新的日本发展机遇。推动日本半导体产业迈向新的晶将迎高度。台积电控股子公司JASM也预定在2027年投产的圆厂预计运抵晶圆厂中引入EUV技术，此次购入的EUV光刻机为0.33 NA型号，
【ITBEAR】据《日本经济新闻》报道，此举标志着日本将首次拥有EUV光刻设备，日本半导体制造企业Rapidus将迎来重要时刻，以减少振动对设备的影响。以支持其6nm产线的生产。
▲ IIM-1晶圆厂概念图
除Rapidus外，
Rapidus高管透露，这些先进设备的投入使用将进一步提升日本在全球半导体市场的竞争力，美光广岛工厂预计将在2025年内导入EUV设备，其购入的首台ASML EUV光刻机预计于2024年底抵达北海道新千岁机场。
Rapidus的IIM-1晶圆厂建设进展顺利，该产线将配备包括这台EUV光刻机在内的200余台设备。随着EUV光刻技术的引入，为2026年的1-gamma制程DRAM内存量产做准备。公司计划在2025年4月启动先进制程原型线，对日本半导体产业发展具有里程碑意义。
按照Rapidus的规划，