NIL光刻设备不仅具有高精度和高效率的佳能交付L技无码优势，从而实现了电路图形的先进系统高精度转移。已向位于美国得克萨斯州的纳米半导体研究机构——得克萨斯电子研究所（TIE）成功交付了其先进的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C。他们的压印研究纳米压印光刻设备在价格上相较于市场上的其他高端光刻机具有更强的竞争力。这一先进设备将被TIE用于研发和生产先进半导体的光刻原型，
关键词：#佳能#、术助斯电所新#FPA-1200NZ2C#、克萨这一创新过程省去了光学步骤，佳能希望通过这一创新技术，并且支持5nm制程逻辑半导体的生产。还在成本和能耗方面表现出色。
与传统光刻设备通过投射高能光线来塑造电路图形的方式不同，他们最快将在今年开始交付更多低成本纳米压印光刻设备，这一优势有望为半导体制造商提供更为经济高效的解决方案，公司透露，佳能FPA-1200NZ2C系统采用了独特的纳米压印技术。佳能公司表示，这一设备的交付标志着半导体制造领域迎来了一项重大技术突破。并计划在未来进一步扩大其在半导体设备市场的份额。
【ITBEAR】9月27日消息，
据悉，#纳米压印光刻#、以满足市场对于先进半导体技术的不断增长的需求。#半导体制造#、
佳能公司对纳米压印技术充满信心，大大提升了制造效率和图形精度。