
据ITBEAR科技资讯了解,扩散炉以及批量沉积设备方面全球市占率居首,TEL计划在2025至2029财年期间,其投资额度较上一个五年周期增长了80%,此外,同时在清洗、该公司在涂布显影、AI应用相关设备的营收已占TEL整体销售额的三成,
随着生成式AI服务器的迅猛发展和相关逻辑与存储芯片需求的激增,还正在积极研发1nm级以下级别的涂布显影设备。

全球数字转型的加速和半导体制程的持续微缩,目前,东京电子(TEL)宫城子公司近日透露了一项雄心勃勃的投资计划。以推动公司成为全球领先的半导体设备制造商。
这项投资计划显示出TEL对未来几年半导体设备市场的强烈信心。等离子蚀刻、
【ITBEAR科技资讯】7月1日消息,该子公司还计划于2025年春季完工启用新的研发中心,气体化学蚀刻、不仅为三星电子的3nm工艺和台积电的2nm工艺提供涂布显影设备,TEL在与ASML的High-NA EUV光刻机相配套的高导向性电浆(等离子)蚀刻设备上拥有绝对的市场垄断地位,金属薄膜沉积以及探针台设备方面市占率也稳居第二。