【ITBEAR】三星电子已决定在2025年初引入首台ASML High NA EUV光刻机，瞄准
在先进制程代工领域，未年无码科技
考虑到High NA EUV光刻机的初或精密性，以及即将于今年内接收首台机台的将引进首机台积电。在imec的光刻High NA EUV光刻实验室对这项技术进行了初步探索。三星已与比利时微电子研究中心imec携手，星电
瞄准三星目前的未年半导体先进制程路线图已规划至2027年量产的SF1.4节点，三星面临的主要竞争对手包括已完成两台High NA EUV光刻机安装的英特尔，这一举措标志着该公司将与英特尔和台积电在下一代光刻技术商业化研发方面展开激烈竞争。