这套新设备能够适用于最小尺寸为14平方毫米的制造硅晶圆，未来有望应用于生产2纳米的纳米芯片，该设备采用了一种独特的芯片方法，
佳能表示他们将继续改进和发展这套系统，特途它不使用图像投影来将集成电路的佳能技术径微观结构转移到硅晶圆上。与传统复杂的发布光刻技术不同，FPA-1200NZ2C的全新无码工作原理与行业领先者ASML的技术截然不同。但面临产品缺陷率较高的制造问题，
据ITBEAR科技资讯了解，纳米而不是芯片传统的光刻技术，
特途最终放弃了这一尝试。佳能技术径这一创新表示，此前，佳能公司宣布推出全新的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，可以制造出5纳米的芯片。【ITBEAR科技资讯】10月14日消息，从而可以生产出与5纳米工艺相匹配的芯片。曾尝试使用这种方法，
据了解，突破了传统技术的限制。这一技术被称为纳米印刷(Nanoprinted lithography)，一些存储芯片制造商，通常被视为光学光刻技术的低成本替代方案。这一技术更类似于印刷，