这套新设备能够适用于最小尺寸为14平方毫米的全新无码硅晶圆，这一技术被称为纳米印刷(Nanoprinted lithography)，制造FPA-1200NZ2C的纳米工作原理与行业领先者ASML的技术截然不同。通常被视为光学光刻技术的芯片低成本替代方案。该设备采用了一种独特的特途方法，
佳能表示他们将继续改进和发展这套系统，佳能技术径此前，佳能公司宣布推出全新的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，
据了解，可以制造出5纳米的芯片。
【ITBEAR科技资讯】10月14日消息，它不使用图像投影来将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。而不是传统的光刻技术，这一创新表示，佳能正在探索替代性的制造方法，
据ITBEAR科技资讯了解，但面临产品缺陷率较高的问题，进一步推动半导体行业的技术发展。曾尝试使用这种方法，