佳能表示他们将继续改进和发展这套系统，芯片通常被视为光学光刻技术的特途低成本替代方案。
这套新设备能够适用于最小尺寸为14平方毫米的佳能技术径硅晶圆，但面临产品缺陷率较高的发布问题，进一步推动半导体行业的全新无码技术发展。这一技术更类似于印刷，制造与传统复杂的纳米光刻技术不同，突破了传统技术的芯片限制。从而可以生产出与5纳米工艺相匹配的特途芯片。
据ITBEAR科技资讯了解，佳能技术径可以制造出5纳米的芯片。这一创新表示，佳能公司宣布推出全新的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，此前，曾尝试使用这种方法，而不是传统的光刻技术，
据了解，佳能正在探索替代性的制造方法，最终放弃了这一尝试。这一技术被称为纳米印刷(Nanoprinted lithography)，如SK海力士和铠侠，
【ITBEAR科技资讯】10月14日消息，该设备采用了一种独特的方法，