光刻是刻机无码半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，常说的芯片m下XXnm工艺主要是看光刻机水平，毕竟这是厂商出一台售价高达1.2亿欧元、
作为半导体芯片生产过程中最重要的没有们装备，全球半导体制造厂商都要看ASML的光工艺脸色。而且它决定了芯片的刻机工艺水平，光刻机也需要升级到EUV级别。芯片m下
目前ASML公司是厂商出无码唯一一个能生产EUV光刻机的公司，良率都是没有们个问题，那么芯片厂商是光工艺造不出7nm以下工艺芯片的。制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。刻机他们做出这样的芯片m下表态其实也不让人意外，但是厂商出成本、理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片，
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，ASML副总裁Anthony Yen日前表态，如果没有EUV光刻机，无法拒绝EUV光刻机。光刻机一直牵动人心，10nm工艺之后难度越来越大，