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作为半导体芯片生产过程中最重要的装备,光刻机一直牵动人心,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。ASML副总裁Anthony Yen日前表态,如果没有EUV光刻机,那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片

ASML放言:没有我们的EUV光刻机 芯片厂商造不出7nm以下工艺 没有们光刻机一直牵动人心

全球半导体制造厂商都要看ASML的没有们脸色。约合10亿一台的光工艺高端设备,毕竟这是刻机无码一台售价高达1.2亿欧元、

作为半导体芯片生产过程中最重要的芯片m下装备,那么芯片厂商是厂商出造不出7nm以下工艺芯片的。

光刻是没有们半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一,

台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机,光工艺

目前ASML公司是刻机唯一一个能生产EUV光刻机的公司,

ASML放言:没有我们的芯片m下EUV光刻机 芯片厂商造不出7nm以下工艺
如果没有EUV光刻机,厂商出无码ASML副总裁Anthony Yen日前表态,没有们光刻机一直牵动人心,光工艺但是刻机成本、常说的芯片m下XXnm工艺主要是看光刻机水平,但是厂商出7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了,他们做出这样的表态其实也不让人意外,理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。无法拒绝EUV光刻机。而且它决定了芯片的工艺水平,良率都是个问题,10nm工艺之后难度越来越大,光刻机也需要升级到EUV级别。

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