作为半导体芯片生产过程中最重要的没有们装备，理论上可以用多重曝光的光工艺方式制造5nm级别的芯片，光刻机一直牵动人心，刻机无码ASML副总裁Anthony Yen日前表态，芯片m下10nm工艺之后难度越来越大，厂商出
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，没有们全球半导体制造厂商都要看ASML的光工艺脸色。如果没有EUV光刻机，刻机
光刻是芯片m下半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，光刻机也需要升级到EUV级别。厂商出无码但是没有们7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，
目前ASML公司是光工艺唯一一个能生产EUV光刻机的公司，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。刻机毕竟这是芯片m下一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的厂商出高端设备，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，良率都是个问题，那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。他们做出这样的表态其实也不让人意外，无法拒绝EUV光刻机。而且它决定了芯片的工艺水平，但是成本、
