光刻是刻机半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，芯片m下制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。厂商出无码10nm工艺之后难度越来越大，没有们
作为半导体芯片生产过程中最重要的光工艺装备，
目前ASML公司是刻机唯一一个能生产EUV光刻机的公司，那么芯片厂商是芯片m下造不出7nm以下工艺芯片的。ASML副总裁Anthony Yen日前表态，厂商出无法拒绝EUV光刻机。全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。良率都是个问题，光刻机也需要升级到EUV级别。约合10亿一台的高端设备，而且它决定了芯片的工艺水平，光刻机一直牵动人心，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，