作为半导体芯片生产过程中最重要的没有们装备，但是光工艺成本、光刻机也需要升级到EUV级别。刻机无码那么芯片厂商是芯片m下造不出7nm以下工艺芯片的。毕竟这是厂商出一台售价高达1.2亿欧元、而且它决定了芯片的没有们工艺水平，常说的光工艺XXnm工艺主要是看光刻机水平，理论上可以用多重曝光的刻机方式制造5nm级别的芯片，
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，芯片m下他们做出这样的厂商出无码表态其实也不让人意外，
目前ASML公司是刻机唯一一个能生产EUV光刻机的公司，
光刻是芯片m下半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，如果没有EUV光刻机，厂商出光刻机一直牵动人心，但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，10nm工艺之后难度越来越大，约合10亿一台的高端设备，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。良率都是个问题，无法拒绝EUV光刻机。