得益于先前的尔再经验，该机型有望避免初期EUV光刻机所遭遇的进步无码延迟问题。重点推介了High NA EUV光刻机。第台相较于标准EUV光刻机，刻机省去了拆卸和再组装的成安繁琐步骤，所有必需的英特已完基础设施已准备就绪并投入运营，
随后，尔再High NA EUV所带来的进步性能提升可能更加显著。即在客户工厂直接安装扫描仪子组件，第台无码英特尔院士兼光刻总监Mark Phillips登台，刻机
成安傅恪礼还提及了一种创新的英特已完组装策略，这意味着英特尔无需过多辅助即可将其投入生产。尔再英特尔第二套High NA EUV光刻系统的进步安装速度更快。光刻掩模的检测工作也正按计划推进，【ITBEAR】在最近的SPIE大会上，从而大幅缩减了ASML与客户之间的时间和成本，ASML新任CEO傅恪礼发表演讲，他强调，Mark表示，加速了High NA EUV光刻机的研发与交付进程。他还展示了首台High NA EUV光刻机的照片。他透露，