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他还展示了首台High NA EUV光刻机的英特已完照片。分享了英特尔在波特兰工厂安装两台High NA光刻系统的尔再进展。ASML新任CEO傅恪礼发表演讲，进步无码傅恪礼还提及了一种创新的第台组装策略，省去了拆卸和再组装的刻机繁琐步骤，英特尔第二套High NA EUV光刻系统的成安安装速度更快。加速了High NA EUV光刻机的英特已完研发与交付进程。即在客户工厂直接安装扫描仪子组件，尔再重点推介了High NA EUV光刻机。进步光刻掩模的第台无码检测工作也正按计划推进，

随后，刻机从而大幅缩减了ASML与客户之间的成安时间和成本，他透露，英特已完这意味着英特尔无需过多辅助即可将其投入生产。尔再

得益于先前的进步经验，Mark表示，该机型有望避免初期EUV光刻机所遭遇的延迟问题。他强调，英特尔院士兼光刻总监Mark Phillips登台，相较于标准EUV光刻机，

【ITBEAR】在最近的SPIE大会上，

所有必需的基础设施已准备就绪并投入运营，High NA EUV所带来的性能提升可能更加显著。