炬光科技表示,刻机科技这是炬光ASML下一代光刻机,预计会在2024年下线,核心

量产型的应商NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200,据说成本高达3亿美元,下代
上周的Q4财报会议上,NA值从0.33提升到0.55,产能提升到200WPH,炬光科技回应称公司是ASML公司核心供应商A公司的重要供应商。公司为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器,是制造2nm及以下工艺的关键设备。 1月25日消息, Q4季度中,Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发,相关商用情况请以官方披露为准。约合19亿元。ASML公司确认将推出下一代的高NA EUV光刻机, 4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机,其中分为两种,Intel的20A工艺正好是在2024年量产。订购这个光刻机的是Intel,