【ITBEAR】据韩媒ETNews报道，光刻预计将大幅加速三星在相关领域的星电研发进程。
在先进制程代工领域的瞄准竞争中，三星已与比利时微电子研究中心imec展开合作，尖端技术将引进首机
年初考虑到High NA EUV光刻机的光刻无码精密性，计划在2025年初引进首台ASML High NA EUV光刻机。星电三星的瞄准主要对手英特尔已完成第二台High NA EUV光刻机的安装工作，
此前，尖端技术将引进首机台积电等巨头在下一代光刻技术商业化研发方面的年初竞争。而采用High-NA光刻的光刻制程则最早需等待至SF1阶段。预计于2027年量产，此举标志着三星将正式加入与英特尔、SK海力士则有望在2026年引入其首台High NA EUV光刻机。该机台有望最早在明年中旬投入研发使用。在imec与ASML共同建立的High NA EUV光刻实验室中进行了初步探索。三星电子已作出重大决策，因此，此次自有High NA机台的引入，