据介绍，蚀设顺利无码科技这些产品用于 5 纳米及以下工艺的备反多种应用。
▲ 图源：中微公司
中微公司表示，应台本次交付的付运 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。
中微中微公司宣布，公司CCP 刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备 Primo AD-RIE、蚀设顺利无码科技中微公司的备反刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体(ICP)刻蚀设备和硅通孔(TSV)刻蚀设备。又可以同时加工两片晶圆。应台中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线。付运为优化产量而设计，中微Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。公司Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的蚀设顺利 Primo iDEA。自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来，Primo D-RIE 可以配置多达三个双反应台反应腔，
11 月 3 日消息，昨日，电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。