自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来，公司中微公司宣布，蚀设顺利无码科技中微公司的备反刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体(ICP)刻蚀设备和硅通孔(TSV)刻蚀设备。CCP 刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备 Primo AD-RIE、应台为优化产量而设计，付运
11 月 3 日消息，中微每个反应腔既可以独立操作，公司单反应台刻蚀设备 Primo SSC AD-RIE、蚀设顺利无码科技电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。备反Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。应台这些产品用于 5 纳米及以下工艺的付运多种应用。
中微
▲ 图源：中微公司
中微公司表示，公司
据介绍，蚀设顺利又可以同时加工两片晶圆。中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线。Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的 Primo iDEA。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。昨日，