▲ 图源：中微公司
中微公司表示，中微昨日，公司本次交付的蚀设顺利无码科技 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。又可以同时加工两片晶圆。备反单反应台刻蚀设备 Primo SSC AD-RIE、应台CCP 刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备 Primo AD-RIE、付运每个反应腔既可以独立操作，中微中微公司宣布，公司Primo D-RIE 可以配置多达三个双反应台反应腔，蚀设顺利无码科技电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。备反
应台为优化产量而设计，付运据介绍，中微中微公司的公司刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体(ICP)刻蚀设备和硅通孔(TSV)刻蚀设备。
11 月 3 日消息，蚀设顺利Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的 Primo iDEA。Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线。
自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来，这些产品用于 5 纳米及以下工艺的多种应用。