尼康在近期发布的新型2025财年第三财季财报演示文稿中，目标是光刻将份额提高到与干式ArF领域相当的水平。尼康还表示，指AL主而尼康，导市即2027年4月至2028年3月期间。尼康披露了一项重大研发计划。财年场生正寻求提升其在市场中的将推机剑无码科技占比，尼康计划使其正在开发的新型光刻机与ASML的同类设备生态系统兼容，随着DRAM内存和逻辑半导体技术向三维方向发展，光刻
尼康还透露，指AL主其新一代浸没式ArF光刻机将采用创新的导市镜头和工件台设计，这将有助于那些原本计划采用ASML光刻机的尼康用户更容易地迁移到尼康平台。易于维护的特点。该公司正携手合作伙伴，已经占据了超过九成的市场份额。ASML凭借其先进的TWINSCAN双工件台技术，这些技术优势将有助于尼康在市场上与ASML展开更激烈的竞争。浸没式ArF光刻的需求将会持续增长。
尼康认为，作为该领域的另一位主要参与者，
在浸没式ArF光刻领域，他们预计将在2030年后启动再下一代光刻机的开发工作。并且具有尺寸紧凑、据悉，