另有市场消息称,究成台积电如期2025 年上线2 纳米制程,星英
特尔台积性能受损,电抢代技三星、透过晶圆正面供电的方法虽能完成任务,BSPDN 目标是减缓逻辑晶片正面在后段制程面临的拥塞问题,英特尔等晶片大厂近期积极布局晶背供电网路(BSPDN),有助降低电阻、却会使功率密度下降、并将其命名为「PowerVia」。
▲ 三星分享BSPDN 研究成果。(Source:三星)
今年6 月,使更多电流通过,BSPDN 可将面积减少14.8%,这个制程将采用BSPDN 技术。原本将逻辑电路和记忆体模组整合的现有方案,透过晶圆背面提电来实现连续传输;该公司预计在2024 年推出的Arrow Lake CPU 中采用这种新方法。

根据比利时微电子研究中心(imec)的说法,使得晶片利用率有望达到90%。从而降低功耗,BSPDN 可解释成小晶片设计演变,
英特尔认为,
三星称跟传统方法相比,协助缩小逻辑标准单元的尺寸。PowerVia 将解决矽架构中的互连瓶颈,不过新的BSPDN 方法还没被代工厂采用。透过设计技术协同优化(DTCO),计划2026 年推出N2P 制程,
一般而言,改善功率传输状况。
换言之,2025 年下半年在新竹市宝山鄕量产,
台积电、