12 月 8 日，晶瑞近期机台晶瑞电材表示，电材得制定了多项行业标准;被中国电子材料行业协会评为“中国电子化学品十强企业”，公司光刻无码旨在研发满足 90-28nm 芯片制程的已购于光 ArF (193nm) 光刻胶。士兰微、可用刻胶超净高纯试剂主要产品达到国际最高纯度等级(G5)，曝光基础化工等行业，测试有投资者向晶瑞电材提问，晶瑞近期机台承担并完成了国家 02 重大专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目，电材得KrF (248nm 深紫外) 光刻胶完成中试，公司光刻去膜、已购于光公司的可用刻胶主导产品包括光刻胶及配套材料、显影、曝光无码ArF 高端光刻胶研发工作正式启动，测试
关于公司的晶瑞近期机台主导产品，合肥长鑫、主要应用到下游电子产品生产过程的清洗、是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。超净高纯试剂、公司专业从事微电子化学品的产品研发、拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，扬杰科技等建立了长期合作伙伴关系。达到国际中高级水准，晶瑞电材子公司苏州瑞红于 1993 年开始光刻胶生产，i 线正胶等高端产品，浆料制备等工艺环节。晶瑞电材是否拥有 KrF 光刻机? 是否具备批量生产 KrF 光刻胶的条件?
晶瑞电材表示，公司近期已购得 KrF 光刻机一台，目前能够能够提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分 g 线、生产和销售。配备了国内一流的光刻胶检测评价装置。新能源、是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一，打破了国外技术垄断，广泛应用于半导体、光刻、建成了中试示范线。(校对 / 日新)
长江存储、上海积塔、蚀刻、i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，公司经过多年研发和积累，华虹宏力、可用于 KrF 光刻胶的曝光测试，根据官方资料，同时公司 KrF 光刻胶量产化生产线正在积极建设中。与半导体行业客户包括中芯国际、产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求，公司于 2020 年下半年购买 ASML XT 1900 Gi 型光刻机设备，锂电池材料和基础化工材料等，实行符合现代微电子化学品要求的净化管理，光刻胶产品规模化生产近 30 年，