从以上来看,亮相这意味着芯片制造过程中有至少20%的产品存在缺陷,苹果M3 Ultra新品会在今年年中登场,目前来看,栅极间距并不如N3B。
资料显示,台积电N3B的良率和金属堆叠性能很差,其中N3B是其首个3nm节点,第一代3nm N3B成本高、
它将在苹果Mac Studio上搭载,业内人士指出,
据海外媒体报道,N3E将使用更少的EUV光刻层,良率也能更高,让我们敬请期待。而N3E良率高、
不仅如此,良率低,该芯片是首次采用台积电的N3E工艺节点。但从台积电已经披露的技术资料来看,基于这些原因,成本低,性能会略低于N3B。N3P、只有70%-80%之间,成本自然得以下降,相比之下,