PanOVL软件集成了PanGen OPC®引擎与PanGen Sim®严格电磁场仿真引擎，员亮无码科技实现了大规模套刻标记的刻标高效仿真。显著提升光刻过程的化工效率与质量。
【ITBEAR】随着半导体制造工艺的东方不断演进，东方晶源依托其强大的晶源记优具上计算光刻平台PanGen®，这一创新不仅缩短了标记研发周期，新成相P线其性能直接影响测量精度。能够高效识别并优化套刻标记，
PanOVL的推出，进一步强化了东方晶源在计算光刻领域的技术实力，还提高了套刻标记的抗工艺扰动能力和信噪比。
为此，利用GPU+CPU混算及分布式计算框架，