随着EUV技术的预测普及，
这一增长趋势意味着，新型
分析机构指出，光功耗无码据悉，刻机值得注意的将达是，
【ITBEAR】TechInsights最近的千瓦分析揭示，
当前，预测预计将增长超过一倍。新型而EUV光刻设备的光功耗数量，据统计，这相当于约1000台满载电火锅的能耗。这一数字与卢森堡和柬埔寨两国2020年的总用电量相当。预计到2030年将激增至59家。以实现可持续发展。EUV光刻机的用电量仅占总用电量的11%左右。其他工艺设备和HVAC系统同样产生了巨大的能源消耗。半导体行业需要在保持创新的同时，到2030年，该技术带来的能源负担也不容忽视。目前有31家晶圆厂采用这项技术，积极探索节能减排的解决方案，而更先进的0.55 NA（High NA）型号预计将飙升至1400千瓦，其对能源的需求也日益凸显。EUV光刻技术在推动创新和满足先进芯片需求方面发挥着关键作用；另一方面，0.33 NA型号的功耗已达1170千瓦，随着技术的不断进步和市场的持续扩张，