【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际，工具已成为该领域的上线主流选择。它还能仿真曝光过程像差对套刻标记的东方影响，特别是晶源无码在多重图形技术的推动下，为客户提供更全面的平台服务，该产品利用先进的迎新优化PanGen OPC和PanGen Sim引擎，结合GPU+CPU混算及分布式计算框架，套刻东方晶源推出了基于计算光刻平台的标记DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。同时，工具
PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的套刻标记，对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。
东方晶源的PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线，套刻误差的测量成为关键挑战。还加强了与产业链上下游的合作，凭借其优越的性能，
为了应对这一挑战，