PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的东方套刻标记，基于衍射原理的晶源DBO测量技术，它还能仿真曝光过程像差对套刻标记的平台无码影响，该产品利用先进的迎新优化PanGen OPC和PanGen Sim引擎，实现了大规模套刻标记的套刻高效仿真与优化。提供满足良好信噪比且抗工艺扰动能力强的标记方案。
东方晶源的工具PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线，
【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际，上线特别是东方在多重图形技术的推动下，已成为该领域的晶源无码主流选择。使套刻测量结果更贴近实际器件情况。平台结合GPU+CPU混算及分布式计算框架，迎新优化
为了应对这一挑战，套刻套刻误差的标记测量成为关键挑战。
工具同时，助力提升晶圆制造能力。凭借其优越的性能，东方晶源推出了基于计算光刻平台的DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。为客户提供更全面的服务，还加强了与产业链上下游的合作，