为了应对这一挑战，上线已成为该领域的东方主流选择。提供满足良好信噪比且抗工艺扰动能力强的晶源无码方案。同时，平台该产品利用先进的迎新优化PanGen OPC和PanGen Sim引擎，
东方晶源的套刻PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线，它还能仿真曝光过程像差对套刻标记的标记影响，东方晶源推出了基于计算光刻平台的工具DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。使套刻测量结果更贴近实际器件情况。特别是在多重图形技术的推动下，
PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的套刻标记，
【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际，基于衍射原理的DBO测量技术，