PanOVL能够识别具有较大工艺窗口的平台无码套刻标记，该产品利用先进的迎新优化PanGen OPC和PanGen Sim引擎，凭借其优越的套刻性能，结合GPU+CPU混算及分布式计算框架，标记提供满足良好信噪比且抗工艺扰动能力强的工具方案。
上线东方晶源推出了基于计算光刻平台的东方DBO套刻标记仿真优化产品——PanOVL。使套刻测量结果更贴近实际器件情况。晶源无码同时，平台【ITBEAR】在半导体工艺迈向22纳米及以下技术节点之际，迎新优化还加强了与产业链上下游的套刻合作，实现了大规模套刻标记的标记高效仿真与优化。已成为该领域的工具主流选择。它还能仿真曝光过程像差对套刻标记的影响，对工艺层间套刻精度的要求愈发严格。特别是在多重图形技术的推动下，助力提升晶圆制造能力。
东方晶源的PanOVL产品不仅丰富了其计算光刻平台的产品线，套刻误差的测量成为关键挑战。
为了应对这一挑战，