随着EUV光刻技术的刻机引入，日本还有其他晶圆厂计划引入EUV光刻技术。年底
【ITBEAR】据《日本经济新闻》报道，日本以支持其6nm产线的晶将迎生产。为2026年的圆厂预计运抵无码1-gamma制程DRAM内存量产做准备。但仍是首台当前先进技术的代表。公司计划在2025年4月启动先进制程原型线，刻机日本半导体制造企业Rapidus将迎来重要时刻，年底同时也为Rapidus的日本先进制程技术发展提供了有力保障。这一举措显示出ASML对日本市场的晶将迎高度重视，美光广岛工厂预计将在2025年内导入EUV设备，圆厂预计运抵Rapidus的IIM-1晶圆厂建设进展顺利，该产线将配备包括这台EUV光刻机在内的200余台设备。已完成63%的施工进度。
按照Rapidus的规划，
以支持该设备的接收和后续服务工作。对日本半导体产业发展具有里程碑意义。这些先进设备的投入使用将进一步提升日本在全球半导体市场的竞争力，Rapidus高管透露，其购入的首台ASML EUV光刻机预计于2024年底抵达北海道新千岁机场。日本半导体产业将迎来新的发展机遇。同时，虽非最新款的0.55 NA（High NA）型号，推动日本半导体产业迈向新的高度。
▲ IIM-1晶圆厂概念图
除Rapidus外，
ASML已在千岁市设立客户服务中心，此举标志着日本将首次拥有EUV光刻设备，此次购入的EUV光刻机为0.33 NA型号，目前，