为提高生产效率，公司中微半导体设备(上海)股份有限公司(简称“中微公司”)首台 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户生产线。首台蚀机无码Primo AD-RIE 200 在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升，英寸以满足客户生产线未来可能扩产的中微需求。基于已被业界广泛认可的公司 12 英寸 CCP 刻蚀设备的成熟工艺与特性，此外，首台蚀机
Primo AD-RIE 200 是英寸中微公司自主研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备。能够满足不同客户 8 英寸晶圆的中微无码加工需求。Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔(即六个反应台)。公司
6 月 15 日消息 今天，首台蚀机
英寸