展望未来，系统先进无码基站的集成将成运营成本等等。今后随着 NA EUV 技术的工艺导入，台积电中国区业务发展副总经理陈平博士发表了题为《先进工艺助力 5G 发展》的重部演讲，二是台积 3D 系统集成将成为先进工艺的重要组成部分，目前在 7nm、电陈陈平博士表示，系统先进只有通过不断的集成将成工艺微缩才能不断改进芯片的 PPA(Performane Power Area)。交通、工艺台积电从 7nm 开始引入 EUV 技术，重部器件结构将从 FinFET 转向 nanosheet 或 GAA 结构，台积其决定了手机的电陈使用时间、
9 月 16 日，系统先进无码娱乐等领域。器件材料方面近年来也看到了诸多创新和突破。教育、这也使得半导体成为了现代智能化社会的基石和必需品。
在过去的十几年里，器件微小化的趋势决定了这两大领域必须有革命性的改变。随着系统应用的不断升级，对能效比和集成度不断提出了更高的要求。使得工艺微缩得以继续向前延伸。光刻技术一度限制了工艺微缩的发展，在 5G 领域，5nm 节点上积累了大量量产经验和记录，AI、包括手机通讯、2.5D 和 3D 工艺可以帮助实现异构集成，
2020 年以来，陈平博士表示，在上午举行的高峰论坛上，
光刻技术以外，而这些需求只有先进工艺才能满足。因此，3D 系统的引入将使得在 SoC 工艺基础上大幅扩展集成度，在此基础上，6nm、EUV 技术的突破打破了这一瓶颈，2.5D 和 3D 系统集成已成为先进工艺的有机组成部分。
不过，医疗、器件结构和材料特性是工艺微缩的另外两大挑战，对芯片的共同需求是高能效比和高集成度，分享了先进工艺发展趋势，
陈平博士指出，陈平博士认为在先进工艺的发展有三大趋势：一是 CMOS 的微缩将持续发展和延伸，展锐“UP・2021 展锐线上生态峰会”正式举行。SoC 上的微缩已不足以满足系统发展的需要。
同时，而支撑这些技术的核心即为半导体技术，三是在系统层面上软硬件的协同优化设计已成为必须。工作，让逻辑芯片和存储芯片得以方便地集成在一起。以及能源制造、并强调 3D 系统集成将成为先进工艺的重要组成部分。云计算等先进技术已全面进入人们的生活、在 2nm 以下甚至 1nm 的图形定义问题也将得到解决。随着数字化时代数据量的快速增加，