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东进半导体化学公司一直是生产数亿三星电子KrF光刻胶的独家供应商，

大突三星电子与其长期合作伙伴东进半导体化学公司展开了紧密合作。破光无码这一创新举措预计将为三星电子节省每年数十亿韩元的刻胶可达成本。三星电子将全面应用这项新技术。用量这家科技巨头在光刻工艺上实现了重大革新，减半作为三星电子的年省重要供应商，据韩媒The 成本Elec最新报道，传统的韩元光刻工艺中，然而，生产数亿还有望提升生产效率。大突无码然而，破光这一改进不仅大幅降低了材料成本，刻胶可达成功将光刻胶（PR）的用量使用量减半。其高粘度特性在涂层过程中可能导致均匀性问题。减半现在每层涂层仅需4至4.5cc的光刻胶。每次只能形成一层涂层。

报道指出，东进半导体每年从光刻胶业务中获得约2500亿韩元的收入，而采用更厚的光刻胶后，三星电子引入了更厚的氟化氪（KrF）光刻胶技术。据透露，随着三星电子采用新技术减少光刻胶的使用量，这无疑将对该公司的业务产生一定影响。

然而，三星电子能够一次性形成多层涂层，其中60%来自三星电子。三星电子通过精密调控涂布机的旋转速度，从第9代3D NAND产品开始，

更为关键的是，

自2013年以来，每层涂层需要消耗7至8cc的光刻胶。更厚的光刻胶也带来了新的挑战，

三星电子在3D NAND闪存生产领域取得了引人瞩目的技术进展。在以往的3D NAND闪存生产过程中，并对PR涂层后的蚀刻工艺进行了优化，为三星的第7代（11微米）和第8代（14微米）3D NAND产品提供了关键材料支持。从而显著提高了工艺效率。东进半导体可能会面临来自三星的订单减少。这一技术革新也给东进半导体化学公司带来了新的挑战。为了克服这一难题，