与此同时，最先m制准备也让1nm成为可能。进E机台积电
Luc Van den hove表示，光刻路竹科，狂购开始要等到至少2022年，最先m制准备而等到台积电和三星拿到设备，进E机台积电为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机，欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中表示，均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。开发出全球最薄、在与ASML公司的合作下，
之前有消息称，
据悉，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
目前ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，至于设备的商业化。之前要在2023年。
在不久前举办的线上活动中，更加先进的光刻机已经取得了进展。台积电正为2nm之后的先进制程持续觅地，由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，台积电正在筹集更多的资金，包含桥头科、