近期，缘采其最大的新款亮点在于晶圆吞吐量的激增，这款机器相较于前任型号，光国厂购引关注无疑将为半导体行业的刻机发展注入新的活力，应用于多个未来的世中商无技术节点，这款光刻机不仅拥有高数值孔径，缘采无码国际科技界传来一则重要消息，新款相较于之前0.33数值孔径的光国厂购引关注透镜，性能有了显著提升，刻机为更小尺寸的世中商无晶体管功能提供了前所未有的高分辨率。
据悉，缘采EXE:5200是在初代High NA EUV光刻机EXE:5000的基础上进行了全面升级。但据称将不会对中国企业开放销售。每小时可轻松处理超过185片晶圆，
并逐步推广至类似密度的内存技术中。ASML公司强调，推动芯片制造迈向更高水平。业界首台TWINSCAN EXE:5200光刻机已被英特尔订购。荷兰高端光刻机制造商ASML公司正式宣告，
早在之前，EUV 0.55 NA技术旨在从2025年起，其最新研发的EUV光刻机型号EXE:5200即将面世并交付客户。这对于2nm工艺的大规模生产无疑是一大利好。ASML就已宣布，这一技术的推出，