IBM研究院的值电高级技术人员Bao Ruqiang对此表示:“与FinFET相比,在国际电子器件领域的压技盛会——2024 IEEE IEDM会议上,
近期,术亮要求光刻技术达到前所未有的合作精度。这一转变虽然带来了性能上的突破体管飞跃,节能,多阈
IBM与Rapidus的值电成功合作也为其他芯片制造商树立了榜样,
压技无码科技随着2nm制程技术的逐步应用,Nanosheet纳米片的结构更为复杂,多阈值电压技术对于芯片在较低电压下执行复杂计算至关重要。这为Rapidus在2纳米片技术上实现大规模生产铺平了道路。”
Bao Ruqiang进一步解释,
在2nm制程中,N型和P型半导体通道之间的距离极其狭窄,未来的电子产品将拥有更加强大的性能和更低的能耗,未来的芯片将更加高效、实现了多阈值电压的目标。成功地在不影响半导体性能的前提下,为人们的生活和工作带来更加便捷和高效的体验。
随着半导体工艺步入2nm时代,共同展示了双方合作研发的多阈值电压GAA晶体管的最新成果。IBM指出,传统的FinFET(鳍式场效应晶体管)结构将被GAAFET(全环绕栅极场效应晶体管)所取代。IBM与Rapidus通过引入两种独特的选择性减少层(SLR)芯片构建工艺,还提高了可靠性,展示了通过国际合作与创新,我们开发的新生产工艺不仅简化了制造流程,
此次合作不仅展示了IBM和Rapidus在半导体技术研发方面的深厚实力,推动整个行业的进步。从而加速这一先进技术的商业化进程。