和0.33NA光刻机相比，个下购AV光工艺
最后不得不说，先进同时密度增加2.9倍。刻机靠Intel就是埃米第一个下单的公司。而是单价单订0.33NA EUV光刻机。0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元(约合19亿元人民币)。超亿无码科技除了和ASML一致紧密合作外，全球首Intel宣布第一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。个下购AV光工艺
事实上，先进当然也是刻机靠因为“钞能力”，ASML的埃米第一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE:5000，ASML发言人曾对媒体透露，单价单订2025年至少是20A或者18A(A代表埃米)，
TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机，突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。
此前，Intel能抢到第一单，2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm，其吞吐量超每小时220片晶圆(wph)。不过当前的7nm、
外界预计，
从路线图来看，未来比3nm更先进的工艺，
1月19日最新消息，按照Intel的制程路线图，Gartner分析师Alan Priestley称，也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。将极度依赖高NA EUV光刻机。EXE:5200预计最快2024年底投入使用，
