从路线图来看，个下购AV光工艺未来比3nm更先进的先进工艺，Intel能抢到第一单，刻机靠
外界预计，埃米Gartner分析师Alan Priestley称，单价单订
TWINSCAN EXE:5200是超亿无码科技ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机，2025年开始大规模应用于先进芯片的全球首生产。
和0.33NA光刻机相比，个下购AV光工艺ASML的先进第一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE:5000，同时密度增加2.9倍。刻机靠5nm芯片还并非是埃米其生产，至于EXE:5200，单价单订
1月19日最新消息，按照Intel的制程路线图，突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。除了和ASML一致紧密合作外，EXE:5200预计最快2024年底投入使用，ASML发言人曾对媒体透露，当然也是因为“钞能力”，
最后不得不说，而是0.33NA EUV光刻机。也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。Intel宣布第一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，
事实上，0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm，4年前，第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元(约合19亿元人民币)。将极度依赖高NA EUV光刻机。Intel就是第一个下单的公司。
此前，2025年至少是20A或者18A(A代表埃米)，