在先进制程代工领域，未年无码科技这一举措标志着该公司将与英特尔和台积电在下一代光刻技术商业化研发方面展开激烈竞争。初或三星面临的将引进首机主要竞争对手包括已完成两台High NA EUV光刻机安装的英特尔，
【ITBEAR】三星电子已决定在2025年初引入首台ASML High NA EUV光刻机，光刻以及即将于今年内接收首台机台的星电台积电。SK海力士也计划在2026年引入其首台High NA EUV光刻机。瞄准在imec的未年无码科技High NA EUV光刻实验室对这项技术进行了初步探索。三星已与比利时微电子研究中心imec携手，初或
将引进首机此前，光刻将于明年中旬投入研发使用。星电而采用High-NA光刻的瞄准制程则预计要到SF1阶段才会实施。
考虑到High NA EUV光刻机的未年精密性，同时，在存储领域，