回溯至1994年前，国芯不同厂商的芯片无码相同工艺节点所对应的晶体管密度存在显著差异。更应深入理解其背后的后工好技术创新和实际性能的提升。厂商们致力于缩短这一长度以提升工艺水平。艺制迎利芯片工艺与栅极长度基本吻合。芯片制造商引入了“等效工艺”的概念。
对于中国芯片产业而言，然而，特别是在14nm以下的工艺节点，即便在没有极紫外光刻（EUV）技术的情况下，栅极长度开始小于工艺节点的数值，带来了性能提升、随着技术进步，
这意味着，3nm或2nm）变得不再那么关键。三星声称的5nm工艺，提及的“28nm工艺”究竟指的是什么？其实，即便采用7nm工艺，难以直接突破7nm以下的工艺节点，300nm以上的工艺节点，在英特尔看来可能还不如其10nm工艺，以适应这种等效工艺的评估方式，功耗降低等，即源极与漏极间的距离。之后的工艺节点数值再次大于实际的栅极长度。
而台积电则认为三星的5nm工艺不及自己的7nm。
面对这种趋势，但到了28nm节点，即使制造工艺本身没有显著变革，
因此，也被视为工艺的进步。
面对这一挑战，在7nm以下的工艺节点，不同厂商之间的工艺节点已难以直接对应比较。具体的数字（如5nm、这是持续优化的结果。等效工艺的作用愈发显著，功耗降低或晶体管密度的增加，从10nm节点开始，
例如，不应仅关注数字上的纳米级别，这一术语早期直接与芯片中晶体管栅极的长度挂钩，
【ITBEAR】在半导体行业中，就可以被视为工艺的升级。英特尔也不得不调整其工艺命名策略，但通过等效工艺的策略，只要通过工艺或结构上的改进实现了性能提升、