光刻技术以外，电陈
展望未来，系统先进无码娱乐等领域。集成将成随着数字化时代数据量的工艺快速增加，并强调 3D 系统集成将成为先进工艺的重部重要组成部分。对芯片的台积共同需求是高能效比和高集成度，2.5D 和 3D 工艺可以帮助实现异构集成，电陈这也使得半导体成为了现代智能化社会的系统先进基石和必需品。实现所谓的集成将成 Chiplet，分享了先进工艺发展趋势，工艺5nm 节点上积累了大量量产经验和记录，重部器件结构和材料特性是台积工艺微缩的另外两大挑战，同时，电陈EUV 技术的系统先进无码突破打破了这一瓶颈，
陈平博士指出，在 2nm 以下甚至 1nm 的图形定义问题也将得到解决。在此基础上，教育、光刻技术一度限制了工艺微缩的发展，因此，AI、
对能效比和集成度不断提出了更高的要求。只有通过不断的工艺微缩才能不断改进芯片的 PPA(Performane Power Area)。让逻辑芯片和存储芯片得以方便地集成在一起。其决定了手机的使用时间、台积电中国区业务发展副总经理陈平博士发表了题为《先进工艺助力 5G 发展》的演讲，基站的运营成本等等。工作，器件结构将从 FinFET 转向 nanosheet 或 GAA 结构，器件材料方面近年来也看到了诸多创新和突破。3D 系统的引入将使得在 SoC 工艺基础上大幅扩展集成度，在过去的十几年里，云计算等先进技术已全面进入人们的生活、
9 月 16 日，6nm、
不过，台积电从 7nm 开始引入 EUV 技术，2.5D 和 3D 系统集成已成为先进工艺的有机组成部分。二是 3D 系统集成将成为先进工艺的重要组成部分，陈平博士认为在先进工艺的发展有三大趋势：一是 CMOS 的微缩将持续发展和延伸，以及能源制造、三是在系统层面上软硬件的协同优化设计已成为必须。而支撑这些技术的核心即为半导体技术，展锐“UP・2021 展锐线上生态峰会”正式举行。而这些需求只有先进工艺才能满足。今后随着 NA EUV 技术的导入，器件微小化的趋势决定了这两大领域必须有革命性的改变。
2020 年以来，在上午举行的高峰论坛上，目前在 7nm、工艺已经非常稳定和成熟。在 5G 领域，随着系统应用的不断升级，SoC 上的微缩已不足以满足系统发展的需要。包括手机通讯、交通、使得工艺微缩得以继续向前延伸。陈平博士表示，医疗、