目前Intel正在加速7nm EUV工艺的加e架步伐，
根据Intel之前公布的速n首信息，
7nm是工艺构Intel下一代工艺的重要节点，今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的年量材料和设备，设计复杂度降低了4倍。加e架其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍，速n首无码科技目前还处于产能爬坡阶段，工艺构但是年量因为多年延期，Intel还在努力推进7nm工艺，加e架主要应用于数据中心AI及高性能计算，速n首意义重大。工艺构每瓦性能提升20%，其地位堪比现在的14nm工艺，
7nm工艺的首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片，最快2021年量产。
也就是2年后7nm EUV就能担大梁了。尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺，而且它还是Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，为了彻底解决这些问题，导致10nm工艺进度没跟上，