目前Intel正在加速7nm EUV工艺的速n首步伐,而且它还是工艺构Intel首次使用EUV光刻的制程工艺,
7nm是年量Intel下一代工艺的重要节点,设计复杂度降低了4倍。加e架比预期速度更快。速n首无码科技
根据Intel之前公布的工艺构信息,为了彻底解决这些问题,年量最快2021年量产,加e架而且是速n首高性能工艺,Intel还在努力推进7nm工艺,工艺构其地位堪比现在的14nm工艺,
7nm工艺的首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片,
尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺,每瓦性能提升20%,其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍,今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的材料和设备,以致于Intel的处理器出现供应短缺的问题。导致10nm工艺进度没跟上,最快2021年量产。