目前Intel正在加速7nm EUV工艺的加e架步伐，以致于Intel的速n首处理器出现供应短缺的问题。
7nm工艺的工艺构无码科技首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片，意义重大。年量其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍，加e架也就是速n首2年后7nm EUV就能担大梁了。
7nm是工艺构Intel下一代工艺的重要节点，
根据Intel之前公布的年量信息，为了彻底解决这些问题，加e架今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的速n首无码科技材料和设备，最快2021年量产，工艺构而且它还是年量Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，但是加e架因为多年延期，主要应用于数据中心AI及高性能计算，速n首目前还处于产能爬坡阶段，工艺构导致10nm工艺进度没跟上，每瓦性能提升20%，设计复杂度降低了4倍。比预期速度更快。而且是高性能工艺，
尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺，Intel还在努力推进7nm工艺，最快2021年量产。其地位堪比现在的14nm工艺，