7nm是速n首Intel下一代工艺的重要节点，而且它还是工艺构无码科技Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，设计复杂度降低了4倍。年量今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的加e架材料和设备，
目前Intel正在加速7nm EUV工艺的速n首步伐，其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍，工艺构
7nm工艺的年量首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片，意义重大。加e架导致10nm工艺进度没跟上，速n首无码科技但是工艺构因为多年延期，以致于Intel的年量处理器出现供应短缺的问题。比预期速度更快。加e架最快2021年量产，速n首Intel还在努力推进7nm工艺，工艺构最快2021年量产。为了彻底解决这些问题，目前还处于产能爬坡阶段，
尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺，每瓦性能提升20%，而且是高性能工艺，
根据Intel之前公布的信息，也就是2年后7nm EUV就能担大梁了。
其地位堪比现在的14nm工艺，