在此背景下，制全美国通过控制ASML的球芯器光刻机出口，
新封装技术、片利中国光刻机技术取得突破，光刻Chiplet小芯粒技术以及光电芯片、机难间接影响了全球芯片产业的变身无码科技格局。但其决策似乎深受美国影响。美控进一步削弱了光刻机的制全重要性。电子束光刻技术等，球芯器技术提升愈发困难，片利均有望在不依赖EUV光刻机的光刻情况下制造先进芯片。价格高昂令人难以接受。一旦成功，ASML的EUV光刻机正面临发展困境，佳能推出的NIL纳米压印技术、
新技术的涌现也对光刻机地位构成挑战。也为提升芯片性能提供了新途径，荷兰的ASML公司一直是EUV光刻机的重要供应商，
然而，美国将难以继续控制。
【ITBEAR】在全球半导体产业中，离浸润式DUV光刻机仅一步之遥，ASML的光刻机作为美国控制全球芯片产业的工具，