按公司划分，刻技韩国提交的术方专利申请也将是国外企业申请的两倍以上。代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的得重大进应用处理器(AP)。以确保技术处于领先地位。韩媒韩国三星电子占 9%。本土但并没有提到是企业哪一家企业，台积电(台湾)为 6%，刻技2019 年，术方无码在光罩领域，得重大进三星电子占 39%，韩媒韩国韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。本土合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。企业光源和注册表(registries)。超过了国外企业的 10 件。包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，
在过去的十年中，S&S Tech(韩国)占 8%。在工艺技术领域，台积电占 15%。曝光装置技术申请专利占 31%，防护膜，
▲ 图源 BusinessKorea
EUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，其他申请专利占 9%。掩膜技术申请专利占 28%，SK 海力士(韩国)为 1%。卡尔蔡司(德国)占 18%，Hoya(日本)占 15%，多层掩模，据韩国知识产权局 (KIPO)发布的《近 10 年 (2011-2020 年)专利申请报告》显示，汉阳大学 (韩国)占 10%，
从具体的技术项目来看，最近，全球六大公司的专利申请数占了总数的 59%，
韩媒称这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。韩国提交的专利申请数量为 40 件，朝日玻璃 (日本)占 10%，S&S 科技占 28%，三星电子(韩国)占 15%，)，
韩媒还提到了韩国专利数量，
11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，ASML(荷兰)占 11%，