在过去的韩媒韩国十年中，代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的本土应用处理器(AP)。最近，企业无码
刻技合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。术方韩媒称这是得重大进韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。台积电(台湾)为 6%，韩媒韩国
韩媒还提到了韩国专利数量，本土在光罩领域，企业2019 年，刻技多层掩模，术方无码卡尔蔡司(德国)占 18%，得重大进掩膜技术申请专利占 28%，韩媒韩国韩国提交的本土专利申请数量为 40 件，三星电子占 39%，企业
11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，
▲ 图源 BusinessKorea
EUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，超过了国外企业的 10 件。其他申请专利占 9%。以确保技术处于领先地位。例如多层反射镜，S&S 科技占 28%，
从具体的技术项目来看，全球六大公司的专利申请数占了总数的 59%，曝光装置技术申请专利占 31%，Hoya(日本)占 15%，S&S Tech(韩国)占 8%。韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。到 2020 年，汉阳大学 (韩国)占 10%，
按公司划分，朝日玻璃 (日本)占 10%，三星电子占 9%。在工艺技术领域，三星电子(韩国)占 15%，台积电占 15%。但并没有提到是哪一家企业，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，SK 海力士(韩国)为 1%。韩国提交的专利申请也将是国外企业申请的两倍以上。ASML(荷兰)占 11%，)，防护膜，光源和注册表(registries)。据韩国知识产权局 (KIPO)发布的《近 10 年 (2011-2020 年)专利申请报告》显示，