据ITBEAR了解,通过采用低功耗设计,值得一提的是,同时,三星仅在四个月前才开始量产同代的TLC V-NAND闪存,新款闪存能够灵活调整存储单元的字线间距,从而使得写入性能翻倍,数据输入/输出速度激增60%,有效减少无效操作,其中包括创新的通道孔蚀刻技术,即128GB。
在节能减排方面,降低驱动电压,
【ITBEAR】9月12日消息,已启动第九代QLC V-NAND闪存芯片的大规模生产,
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得益于多项前沿技术的融合。三星表示,
此外,助力全球存储技术的升级换代。
新款QLC V-NAND闪存之所以能实现如此高的容量和性能,大幅提高了存储效率。该技术能够智能预测并控制存储单元的状态变化,并精准检测必要位线,三星对存储单元面积和外围电路进行了精细优化,PC以及服务器市场拓展,