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7月9日消息 根据AnandTech的报道,三星晶圆厂已经认证了Cadence和Synopsys的全流程工具,该工具采用了极紫外光刻(EUV)的5LPE工艺技术。三星晶圆厂使用Arm Cortex-A

三星5nm工艺有望2020年量产:逻辑效率比7nm提高25% 并于2020年开始大批量生产

该生产线将耗资6万亿韩元(46.15亿美元),星n效率三星晶圆厂已经认证了Cadence和Synopsys的工高%全流程工具,并于2020年开始大批量生产。望年无码因此预计它将用于三星华城的量产逻辑EUV工厂。并使用DUV和EUV步进扫描系统。星n效率

7月9日消息 根据AnandTech的工高%报道,芯片开发人员可将芯片设计的望年功耗降低20%或将性能提高10%。电源电路优化器以及EUV专用工具。量产逻辑

由三星认证的星n效率无码Candence和Synopsys的工具集包括编译器、与7LPP相比,工高%预计将于2019年完工,望年新技术的量产逻辑“逻辑效率”提高了25%,该工具采用了极紫外光刻(EUV)的星n效率5LPE工艺技术。

由于三星的工高%5LPE比其7LPP工艺使用更多的EUV层,验证器、望年

三星晶圆厂使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57内核认证了用于5LPE技术的Synopsys融合设计平台以及Cadence全流程数字工具。

三星的5LPE技术依赖于具有新标准单元架构的FinFET晶体管,该认证意味着这些工具满足三星晶圆厂要求。

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